脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料揮發(fā),從而將材料鍍在所要求的樣品(襯底)上的薄膜沉積技術。PLD-301脈沖激光沉積系統(tǒng)是日本誠南工業(yè)根據(jù)客戶的要求，在豐富經(jīng)驗的基礎上設計制造的，采用PBN加熱器，可將基板加熱到1000℃以上，并采用氧氣氣氛，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的薄膜。 

誠南工業(yè)PLD-301脈沖激光沉積系統(tǒng)設備配置  

薄膜沉積室
樣品交換室
閘閥
閘閥（沉積室和樣品交換室之間）
沉積室用真空計
樣品交換室用真空計
沉積室排氣系統(tǒng)
樣品交換室排氣系統(tǒng)
襯底加熱系統(tǒng)
靶材臺系統(tǒng)
激光鐳射
臺架

可選項
電子槍
襯底加熱系統(tǒng)
手套箱
手套箱運送機構
基材溫度測量用溫度計
離子泵

誠南工業(yè)PLD-301脈沖激光沉積系統(tǒng)規(guī)格

沉積室中達到的真空度：1×10^-6Pa以下
表面處理：電拋光（內(nèi)表面鏡面拋光后）
排氣系統(tǒng)：渦輪分子泵+旋轉(zhuǎn)泵，輔助閥、排氣管道部件
樣品交換室達到的真空度：1×10^-4Pa或更低
表面處理：電拋光（內(nèi)表面鏡面拋光后）。
排氣系統(tǒng)：渦輪分子泵+旋轉(zhuǎn)泵，輔助閥、排氣管道部件

誠南工業(yè)PLD-301脈沖激光沉積系統(tǒng)的使用：

先將真空室抽到一定真空度, 靶面與基片平行放置, 激光束經(jīng)由石英透鏡聚焦到旋轉(zhuǎn)的目標靶材上， 靶材和試樣托分別以一定速度自轉(zhuǎn)，以保證沉積薄膜層的均勻性。